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      工藝冷卻水主要用于各種工藝設備的冷卻

      日期:2024-03-16 閱讀:133
        UPVC和CPVC管道系統具有耐腐蝕、耐沖擊、不易變形、內壁光滑、不易結垢、保溫性好、不導電、粘接方便、使用壽命長等特點。因此,其他金屬管道系統逐漸取代了性價比高、施工成本低的優點,UPVC和CPVC管道系統維護方便快捷,無需長時間停機,造成巨大損失。因此,UPVC和CPVC管道系統是目前工業管道設計的選擇。
        UPVC管道系統允許的較高使用溫度為 60 ℃,長期使用溫度為 45 ℃。適用于輸送溫度低于45℃的腐蝕性介質;也可用于輸送普通壓力流體,一般用于給排水管道、農業灌溉管道、環境工程管道、空調管道等。
        CPVC管道系統允許的較高使用溫度為 110 ℃,長期使用溫度為 95 ℃。適用于在標準允許的壓力范圍內輸送熱水和腐蝕性介質。一般用于石油、化工、電子、電力、冶金、造紙、食品飲料、醫藥、電鍍等工業領域。
        電子清潔廠工藝供水主要包括工藝冷卻水和純水。
        工藝冷卻水主要用于各種工藝設備的冷卻。由于工藝設備中有許多毛細管,為了避免毛細管結垢,工藝冷卻水的水質也提出了相應的要求。
        純水主要用于清洗各種電子產品,純水的使用可以避免水中雜質對電子產品的污染。電子工廠純水的主要特點不僅是水的高電阻率,而且是顆粒度和總有機碳(TOC)、總硅、溶解氧(DO)、各種離子的含量也有不同的要求。
        工藝系統描述2.1工藝流程圖詳見附圖,主要工藝路線如下:原水→原水箱→原水泵→氧化劑加藥裝置→UF裝置→UF原水箱→RO原水泵→還原劑加藥裝置→5μm安全過濾器→阻垢劑加藥裝置→一級高壓泵→一級反滲透膜組→一級RO產水箱→NaOH加藥裝置→二級高壓泵→二級反滲透膜組→RO產水箱→RO增壓泵→TOC去除器→脫氧膜組1→EDI裝置→氮氣密封EDI產水箱→超純水泵→TOC去除燈→拋光混床→終端精密過濾器→超純水使用點。
        用水點1:純水泵1→換熱器→TOC去除器→脫氧膜組2→一級拋光混床→二次拋光混床→終端濾器→用戶終端工藝用水點2用水點2:→純水泵2→TOC去除器→精濾器→用戶其他工藝用水點用水點用水點3:→二級RO產水箱→去用戶的其他工藝用水點。
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